高純度チタンスパッタリングターゲット
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高純度チタンスパッタリングターゲット

高純度チタンスパッタリングターゲット

品目: 高純度チタンスパッタリングターゲット
材質:高純度チタン
寸法: 直径63 x 37mm、直径100 x 40mm
用途: PVD、コーティング、半導体。
キーワード: PVD用スパッタリングターゲット
技法:鍛造、研磨。
純度: 99.95%以上
支払条件: T/T 一覧払い、L/C。
規格: ISO 9001:2015、EN10204 3.1、MTC/EN10204 3.2

製品説明

説明

高純度チタンスパッタリングターゲットは、主に集積回路、情報ストレージ、液晶ディスプレイ、レーザーメモリ、電子制御装置などの電子情報産業で使用され、耐摩耗性材料、高温、耐腐食性、高級装飾用品などの産業にも使用できます。

 

特徴

先進的なマグネトロンスパッタリングコーティングを装備しており、電子銃システムを使用して電子を放出してめっき対象材料に集中させ、スパッタされた原子が運動量変換の原理に従い、より高い運動エネルギーで材料から分離します。市場の製品と比較して、当社の高純度スパッタリングターゲットは薄膜材料のスパッタリング技術を採用しています。ソースによって生成されたイオンを使用して真空中での集中を加速し、高速エネルギーイオンビームを形成して固体表面に衝突させ、イオンが固体表面の原子と運動エネルギーを交換します。

 

項目名

チタン純度: 99.999%

純度

99.99%~99.995%

ご要望に応じて丸型またはカスタマイズ可能

入手可能なサイズ

1. 円形直径: 30-2000mm、厚さ: 3.0mm-300mm

2. プレート: 長さ: 200-500mm 幅: 100-230mm 厚さ: 3-40mm

3. カスタマイズも可能

TQC基準

ISO9001:2008、SGS、第三者報告書

プロセッサ

鍛造およびCNC機械加工

表面

旋回面。

アプリケーション

 

応用

電気メッキ、化学工学および石油化学技術、医療産業、半導体分離、フィルムコーティング材料、蓄電電極コーティング、スパッタリングコーティング、表面コーティング、眼鏡コーティング産業。航空宇宙(ジェットエンジン、ミサイル、宇宙船)、軍事、化学および石油製品、淡水化および製紙産業、自動車、農業食品、医療(義肢、整形外科インプラント、歯科器具および充填剤)、スポーツ用具、宝石、携帯電話など。

 

 

 

4

 

 

化学成分

 

アイテム

N

C

H

O

残余

要素

マックス

合計

グレード1

0.03

0.08

0.015

0.2

0.18

/

/

0.1

0.4

Gr2の

0.03

0.08

0.015

0.3

0.25

/

/

0.1

0.4

7級

0.03

0.08

0.015

0.3

0.25

/

/

0.1

0.4

Gr12の

0.03

0.08

0.015

0.3

0.25

0.2-0.4

0.6-0.9

0.1

0.4

 

 

3

 

 

 

 

特徴

純度: ターゲット材料の純度はフィルムの性能に大きな影響を与えるため、純度はターゲット材料の主な性能指標の 1 つです。

 

しかし、実際には、対象材料の純度に対する要件も異なります。

不純物含有量:ターゲット材料中の固体不純物と酸素および水分の多孔性が、堆積膜の主な発生源です。ターゲットの用途によって、不純物含有量に対する要件が異なります。たとえば、半導体産業の純アルミニウムおよびアルミニウム合金材料では、アルカリ金属含有量と放射性元素含有量に特別な要件があります。

 

ターゲットの純度が高いほど、フィルムの性能は向上します。当社の高純度チタンスパッタリングターゲットは、99.995%の純度を満たすことができます。

 

テスト

DT: 破壊試験、物理的特性試験、硬度試験、化学組成試験。

NDT: 非破壊検査、超音波検査、浸透検査、外観検査。

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