チタンラウンドターゲット

コーティングターゲットとは、適切なプロセス条件下でマグネトロンスパッタリングまたはその他のコーティングシステムによって基板上にスパッタリングされ、機能フィルムを形成するスパッタリングソースです。つまり、ターゲット材料は、高エネルギーレーザー兵器に使用される高速電荷エネルギー粒子衝撃のターゲット材料であり、異なる電力密度、異なる出力波形、異なるレーザー波長、および異なるターゲット材料の相互作用により、異なる殺傷効果と損傷効果を生み出します。

チタンスパッタリングターゲットの製造には、原料粉末の準備、予熱、ホットプレス、加工、表面処理が含まれます。原材料の準備は、チタンスパッタリングターゲットの品質を確保するための鍵です。予熱とホットプレスは、チタンスパッタリングターゲットを製造するための重要なプロセスステップであり、均一で緻密な材料​​が得られ、ターゲットの物理的特性と化学的特性が確保されます。加工には、切断、成形、研磨が含まれます。表面処理には、洗浄、不動態化、パッケージングなどが含まれます。

高度なプロセスを備え、より長い耐用年数を備えています。その高い性能により、チタン円形ターゲットは半導体分離装置、フラットパネルディスプレイ、ストレージ電極フィルム、ワークピースのコーティング、ガラスコーティング業界などで重要な役割を果たします。

チタン丸型ターゲットは、バンドギャップが広く、誘電率が低く、温度安定性があるため、用途が広いです。薄膜は主にマグネトロンスパッタリングによって製造され、ターゲット材料はスパッタリングコーティングプロセスの重要な基本原料です。優れた超音速プラズマスプレー技術を備え、熱源温度が高く、不活性空気雰囲気で、スプレー距離が短いです。粒子はプラズマジェット内で高速で飛行し、媒体内で酸化されにくく、酸化しやすいチタン粉末をスプレーするのに有利です。

高融点：チタンの融点は 1668 度であるため、チタンターゲットは優れた高温性能を備えています。

優れた耐食性：チタンは優れた耐食性を備えており、酸、アルカリ、その他の化学物質による腐食に耐えることができるため、電気メッキ、電気分解、真空コーティングなどの業界で使用できます。

優れた安定性: チタンは化学的に安定しており、高温、高圧、不活性ガスの環境でも安定した性能を維持できるため、高温、高圧、不活性ガス下でいくつかの材料を製造するために使用できます。

優れた電気伝導性: チタンターゲットは優れた電気伝導体であるため、電子部品、太陽電池、マイクロ電子デバイスなどの作成に使用できます。用途: 半導体分離、フィルムコーティング材料、ストレージ電極コーティング、スパッタリングコーティング、表面コーティング、眼鏡、電子機器、光電子工学、情報技術、化学、医学、航空宇宙。

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